在先進制程半導體制造中，深紫外DUV光刻、CMP研磨、濕法刻蝕等工藝對潔凈車間空氣品質(zhì)管控標準持續(xù)升級，氨氣、氯化氫、有機揮發(fā)物等AMC氣態(tài)分子污染物即便低至sub-ppb級別，也極易附著晶圓表面，誘發(fā)光刻膠中毒、關(guān)鍵尺寸偏移、芯片良品率下滑等生產(chǎn)隱患，AMC在線實時監(jiān)測已成為晶圓廠制程管控剛需。杜克泰克DK-S4500F-AMC痕量級AMC空氣分子污染物在線監(jiān)測系統(tǒng)，依托CEAS腔增強吸收光譜、EIMS增強離子遷移譜、紫外脈沖熒光、氣相色譜聯(lián)用多項核心技術(shù)，打造全組分一體化在線監(jiān)測方案，守護半導體潔凈車間生產(chǎn)環(huán)境安全。

　　本套監(jiān)測系統(tǒng)整合四大檢測技術(shù)路線，實現(xiàn)酸堿氣態(tài)污染物與有機雜質(zhì)全品類精準測定：采用CEAS腔增強吸收光譜技術(shù)完成HF、HCl、NH?等酸性、堿性氣體sub-ppb級連續(xù)監(jiān)測；增強離子遷移譜EIMS針對性解析MA類腐蝕性無機污染物；紫外脈沖熒光法穩(wěn)定檢測NO?與氨氣組分；增強型GC-FID/GC-PID色譜技術(shù)精準定量DOP、DBP、DEP、BHT、NMP及TVOCs等MC類有機污染物，四類技術(shù)協(xié)同工作，構(gòu)建完整AMC污染物在線監(jiān)測閉環(huán)，單通道響應速度可達5秒，全組分檢出限低至0.1ppb，測量準確度控制在2%以內(nèi)，量程跨度最高可達1:100000，可依據(jù)客戶待測氣體類型靈活定制量程參數(shù)。
 

　　硬件配置與采樣設計充分適配半導體潔凈廠房復雜工況。系統(tǒng)搭載4~64通道可編程多點采樣單元，采用SiO?涂層不銹鋼閥組，單通道采樣周期1~99分鐘自由設定；標配PFA、PVDF耐腐蝕采樣管路，單點最遠采樣管線長度80米，內(nèi)置防爆抽氣泵與前置除塵過濾器，自動濾除水汽、微米級顆粒物干擾，規(guī)避采樣介質(zhì)污染造成的數(shù)據(jù)失真。整機無機械運動部件，固態(tài)模塊化設計可在0~45℃、濕度＜90%RH無凝露環(huán)境下7×24小時無人值守連續(xù)運行，出廠完成整機標定，長期免維護運行，大幅降低工廠運維成本與停機損耗。

　　系統(tǒng)智能化與數(shù)據(jù)拓展能力適配現(xiàn)代化工廠數(shù)字化管控需求。機身搭載7英寸觸控嵌入式工控屏，實時展示實時數(shù)值、歷史趨勢曲線、超標告警信息，2GB本地存儲空間可連續(xù)留存兩年監(jiān)測數(shù)據(jù)（采樣間隔15s），數(shù)據(jù)支持USB、網(wǎng)口、串口、U盤多途徑導出；通訊標配RS232接口，可選配4-20mA模擬量、Modbus工業(yè)總線協(xié)議，輕松對接工廠MES、潔凈室樓宇自控系統(tǒng)，支持遠程可視化操控與多點位獨立報警設置，超標后繼電器聯(lián)動排風、過濾系統(tǒng)，實現(xiàn)污染物源頭快速處置。整機電源115~230Vac寬電壓適配，意外斷電時本地數(shù)據(jù)自動保存不丟失，保障生產(chǎn)數(shù)據(jù)完整可追溯。

　　產(chǎn)品廣泛落地深紫外先進光刻區(qū)、CMP化學研磨、濕法蝕刻、離子注入、薄膜沉積、潔凈廠房新風/回風管路全場景AMC在線管控，助力工廠精準溯源過濾器失效、車間微量氣體泄漏問題，延長化學過濾器使用壽命，減少非計劃停工頻次。依托國產(chǎn)化精密檢測技術(shù)優(yōu)勢，DK-S4500F-AMC打破進口監(jiān)測設備壟斷，以超高檢測精度、穩(wěn)定運行性能，成為國內(nèi)12英寸晶圓廠、先進封裝產(chǎn)線AMC環(huán)境管控優(yōu)選在線監(jiān)測裝備，持續(xù)賦能國內(nèi)半導體產(chǎn)線良率提升與國產(chǎn)化智能制造升級。